Требования к проектированию микроэлектронных производств с высокими классами чистоты 1-6 ИСО и комбинезонным переодеванием в радиоэлектронной промышленности и межотраслевом приборостроении
Настоящие требования (таблица В.1) должны быть в обязательном порядке определены в задании на проектирование или техническом задании с указанием конкретных значений, определяющих технологический уровень, требуемый к достижению в проектируемом микроэлектронном производстве.
Таблица В.1
Наименование требования | Характеристика |
1 Номенклатура и объем расчетной производственной программы выпуска изделий (продукции) | Устанавливаемые типы и количественные характеристики полупроводниковых приборов, намечаемые к выпуску в проектируемом производстве |
2 Краткая характеристика изделий производственной программы | Устанавливаемые требования к основным электрофизическим параметрам полупроводниковых приборов с указанием особенностей физической структуры |
3 Качественные характеристики продукции. Требования к пооперационному контролю качества | Качественную характеристику кристаллов полупроводниковых приборов на пластине рекомендуется принимать по выходу годных на соответствие заданным электрофизическим параметрам и уровню бездефектности |
4 Размер и материал пластин/подложек | Устанавливаемые базовым технологическим процессом физические размеры пластин/подложек и тип материала |
5 Краткое описание базового технологического процесса | Краткое сквозное пооперационное алгоритмическое описание технологического процесса изготовления полупроводникового прибора с привязкой к технологическому оборудованию. Технология изготовления кристаллов микросхем должна включать описание несколько основных группы* процессов: процессы формирования транзисторной структуры, процессы формирования многоуровневой металлизации, процессы формирования буферных металлических слоев перед бампированием, процессы формирования бампов, процессы утонения и резки пластин на кристаллы |
________________ * Текст документа соответствует оригиналу. - Примечание изготовителя базы данных. | |
6 Перечень основного технологического оборудования | Рекомендуемый заказчиком перечень основного технологического оборудования с анализом и уточнением в ходе разработки технологических решений |
7 Минимальный топологический размер, мкм | Минимальный топологический размер характеризуется минимальным расстоянием между активными элементами полупроводникового прибора на пластине |
8 Количество фотолитографических слоев и уровней металлизации, шт. | Устанавливаемое количество фотолитографических слоев, формирующих рисунок и количество уровней медной разводки на пластине |
9 Используемые в производстве химические вещества и материалы | Перечень используемых в производстве химических веществ и материалов, их сменный и суточный расходы, качественные характеристики по наличию примесей |
10 Требования к качественным характеристикам потребляемых технологических сред | Требования по содержанию примесей, устанавливаемые к технологическим жидкостным, газообразным, металлоорганическим соединениям и деионизованной воде |
11 Требования к качественным характеристикам потребляемых энергоносителей | Требования по содержанию примесей на уровне ppm или ppb, устанавливаемые к магистральным и криогенным газам, сжатому воздуху. Требования к качеству электроэнергии, теплоносителя, холодоносителя, воды |
12 Коэффициент одновременности работы технологического оборудования | Коэффициент для нескольких единиц однотипного оборудования, определяемый как отношение количества единиц работающего оборудования к их общему количеству |
13 Коэффициент использования технологического оборудования | Коэффициент, определяемый как отношение времени фактической работы оборудования к годовому фонду времени |
14 Коэффициент загрузки технологического оборудования с учетом потребления технологических сред | Коэффициент, определяемый как отношение времени фактической работы оборудования с потреблением технологических сред к продолжительности смены |
15 Годовой фонд времени работы технологического оборудования | Количество рабочих часов в год с учетом рабочих смен |
16 Технологические требования к организации производства | Задание на определение требований к промышленной площадке размещения микроэлектронного производства с учетом требований [6]. |
17 Технологические требования к строительным конструкциям и отделке чистых помещений в проектных решениях | Требования к ремонтопригодности, технологичности, герметичности, к коррозионной стойкости, к химостойкости, к гигиеническому исполнению |
18 Технологические требования к инженерному оборудованию в проектных решениях | Требования к ремонтопригодности, технологичности, энергоэффективности, к резервированию, к взрывозащищенности, к коррозионной стойкости, к химостойкости, бесперебойному электроснабжению токоприемников I категории инженерного оборудования и ответственного технологического оборудования, к применению трансформаторов не стандартных напряжений, к гигиеническому исполнению |
19 Технологические требования к промышленной безопасности и надежности в проектных решениях | Требования к наличию на объекте централизованного диспетчерского пункта для сбора, обобщения, систематизации, хранения и вывода информации о работе инженерных систем и оборудования. |
20 Технологические требования к пожарной безопасности в проектных решениях | Требования по наличию на объекте системы автоматической пожарной сигнализации, оповещения о пожаре, управления инженерными системами при пожаре. |
21 Технологические требования к охране окружающей среды и промсанитарии в проектных решениях | Требования к наличию на объекте инженерного оборудования и систем нейтрализации промышленных стоков и вентиляционных выбросов, сбора и утилизации твердых отходов |
22 Специальные технологические требования к охране труда в проектных решениях | Специальные технологические требования по охране труда на рабочих местах эпитаксиального наращивания, жидкостной химической обработки, литографии, термодиффузии, отжига и окисления, плазмо-химического осаждения и травления, планаризации, имплантации. Специальные технологические требования при установке и замене газовых баллонов и химических емкостей, наполнении криогенных сосудов, утилизации химических отходов производства. |
23 Технологические требования к проекту организации строительства и проекту производства работ, в соответствии с "Протоколом чистоты" | Проект организации строительства и проект производства работ должны включать подраздел "Протокол чистоты", в котором следует устанавливать требования к организации строительства и порядку проведения работ в зоне монтажа, реконструкции или ремонта чистых помещений, порядку входа-выхода персонала, ввоза-вывоза материалов и оборудования в чистые помещения |
24 Требования по квалификационным испытаниям трубопроводных систем технологических сред и аттестации чистых помещений | Формирование требований к порядку разработки методик и проведению квалификационных испытаний смонтированных трубопроводных систем технологических сред. Формирование требований к перечню и порядку проведения аттестации чистых помещений |
25 Требования по подключению технологического оборудования к инженерным сетям и системам | Формирование требований в проектной документации к учету затрат специализированных компаний на подключение технологического оборудования к системам инженерного обеспечения: электроснабжения, холодоснабжения, снабжения деионизованной водой, технологическими и техническими газами и жидкостными химикатами, сжатым воздухом, вакуумом, форвакуумным выхлопом, промышленными стоками и т.п. Формирование требований к указанию в проектной документации точек подключения |
Приложение В. (Введено дополнительно, Изм. N 3).