ГОСТ Р 50562-93 Оригиналы и фотошаблоны печатных плат. Общие требования к типовым технологическим процессам изготовления
ПРИЛОЖЕНИЕ Г
(рекомендуемое)
СХЕМЫ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОШАБЛОНОВ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ
Состав комплекса технологических операций для изготовления фотошаблонов ПП приведен в таблицах Г1-Г6.
Таблица Г1
Наименование и последовательность технологических операций | Требования к операции: |
Нарезка заготовки оригинала | 7.10 |
Вырезание элементов топологии | 7.11 |
Удаление эмали | 7.12 |
Контроль оригинала | 8 |
Съемка репродукционной камерой | 7.3 |
Химико-фотографическая обработка | 7.5 |
Ретуширование | 7.6 |
Контроль фотошаблона | 8 |
Экспонирование контактное | 7.2 |
Химико-фотографическая обработка | 7.5 |
Ретуширование | 7.6 |
Контроль фотошаблона | 8 |
Таблица Г2
Наименование и последовательность | Требования к операции: раздел, пункт стандарта |
Изготовление аппликаций проводников и контактных площадок | 7.13 |
Нанесение аппликаций проводников и контактных площадок на основание оригинала | 7.14 |
Контроль оригинала | 8 |
Съемка репродукционной камерой | 7.3 |
Химико-фотографическая обработка | 7.5 |
Ретуширование | 7.6 |
Контроль фотошаблона | 8 |
Мультиплицирование | 7.4 |
Химико-фотографическая обработка | 7.5 |
Ретуширование | 7.6 |
Контроль фотошаблона | 8 |
Таблица Г3
Наименование и последовательность | Требования к операции: раздел, пункт стандарта |
Экспонирование проекционное | 7.2 |
Химико-фотографическая обработка | 7.5 |
Ретуширование | 7.6 |
Контроль фотошаблона | 8 |
Экспонирование контактное | 7.2 |
Химико-фотографическая обработка | 7.5 |
Ретуширование | 7.6 |
Контроль фотошаблона | 8 |
Таблица Г4
Наименование и последовательность | Требования к операции: |
Экспонирование лазерным лучом | 7.2 |
Химико-фотографическая обработка | 7.5 |
Ретуширование | 7.6 |
Контроль фотошаблона | 8 |
Таблица Г5
Наименование и последовательность | Требования к операции: |
Экспонирование проекционное | 7.2 |
Химико-фотографическая обработка | 7.5 |
Ретуширование | 7.6 |
Контроль фотошаблона | 8 |
Экспонирование контактное | 7.2 |
Проявление в парах аммиака | 7.7 |
Контроль фотошаблона | 8 |
Таблица Г6
Наименование и последовательность | Требования к операции: |
Испарение маскирующего покрытия лазерным лучом | 7.8 |
Контроль фотошаблона | 8 |