3.1. Системы, оборудование и компоненты
3.1.2. Нижеперечисленная электронная аппаратура
общего назначения:
3.1.2.7. Атомные эталоны частоты, имеющие любую 8543 20 000
из следующих характеристик:
б) годные для применения в космосе
3.2. Испытательное, контрольное и
производственное оборудование
3.2.1. Нижеперечисленное оборудование для
производства полупроводниковых приборов
или материалов и специально
разработанные компоненты и оснастка для
них:
3.2.1.1.2. Установки химического осаждения паров 8419 89 900
металлорганических соединений,
специально разработанные для выращивания
кристаллов сложных полупроводников с
помощью химических реакций между
материалами, которые контролируются по
пункту 3.3.3 или 3.3.4 раздела 1 Списка
3.4. Программное обеспечение
3.4.1. Программное обеспечение, специально
созданное для разработки или
производства оборудования,
контролируемого по пункту 3.1.2.7 или
3.2 настоящего раздела Списка
3.5. Технология
3.5.1. Технологии, в соответствии с общим
технологическим примечанием
предназначенные для разработки или
производства оборудования,
контролируемого по пункту 3.1 или 3.2
настоящего раздела Списка