11.10.6.10. Программное обеспечение, специально созданное или моди-
фицированное для разработки, производства или применения
производственных установок металлизации напылением, ука-
занных в пункте 1.9.4.5.
11.10.6.11. Конструкция и технология производства снабженных прог-
раммно-управляемым запоминающим устройством производ-
ственных установок для катодно-дугового напыления, вклю-
чающих систему электромагнитов для управления плотностью
тока дуги на катоде
11.10.6.12. Программное обеспечение, специально разработанное или моди-
фицированное для проектирования, производства или приме-
нения производственных установок для катодно-дугового
напыления, указанного в пункте 1.9.4.6.
11.10.6.13. Конструкция и технология производства снабженных прог-
раммно-управляемым запоминающим устройством производ-
ственных установок для ионной металлизации, указанных
в пункте 1.9.4.7.
Примечание
Экспортный контроль не распространяется на конструкцию и
технологию производства стандартных производственных
установок для покрытий, образуемых ионной металлизацией
на режущем инструменте металлообрабатывающих станков
11.10.6.14. Программное обеспечение, специально разработанное или моди-
фицированное для проектирования, производства или приме-
нения производственных установок для ионной металлиза-
ции, указанных в пункте 1.9.4.7.
11.10.6.15. Конструкция и технология производства снабженных прог-
раммно-управляемыми запоминающими устройствами производ-
ственных установок для сухого травления анизотропной
плазмой, указанных в пунктах 1.9.4.8. - 1.9.4.8.2
11.10.6.16. Программное обеспечение, специально разработанное и моди-
фицированное для проектирования, производства или приме-
нения производственных установок для сухого травления
анизоторопной плазмой, указанных в пунктах 1.9.4.8. -
1.9.4.8.2.
11.10.6.17. Конструкция и технология производства снабженных прог-
раммно-управляемыми запоминающими устройствами производ-
ственных установок для химического парофазового осажде-
ния покрытий плазменной стимуляцией, указанных в пунктах
1.9.4.9. - 1.9.4.9.2
11.10.6.18. Программное обеспечение, специально разработанное или моди-
фицированное для проектирования, производства или приме-
нения производственных установок для химического паро-
фазового осаждения покрытий, указанных в пунктах 1.9.4.9. -
1.9.4.9.2.
11.10.7. Процессы нанесения покрытий и модификации поверхности
11.10.7.1 Технологии нанесения (твердых) покрытий из парообразных
химических соединений
Примечания
1. Нанесение (твердого) покрытия из парообразных хими-
ческих соединений - это процесс нанесения чисто внеш-
него покрытия или покрытия с модификацией покрываемой
поверхности, когда металл, сплав, композит, диэлектрик
или керамика наносится на нагретое изделие. Газообраз-
ные продукты (пары, реактанты) разлагаются или сое-
диняются на поверхности изделия, в результате чего на
ней образуются желаемые элементы, сплавы или компаунды.
Энергия для такого разложения или химической реакции
может быть обеспечена нагревом изделия, свечением
плазменного разряда или лучом лазера.
2. Нанесение (твердого) покрытия путем осаждения хими-
ческих соединений из паровой фазы включает следующие
процессы:
беспорошковое нанесение покрытия прямым газовым пото-
ком; пульсирующее химическое осаждение паров; управляе-
мое термическое нанесение покрытий с ядерным дробле-
нием, а также с применением мощного потока плазмы
или реализация химического осаждения паров с ее учас-
тием.
3. Порошковое нанесение означает погружение изделия в
порошок из нескольких составляющих.
4. Газообразные продукты (пары, реактанты). используемые
в беспорошковом процессе, применяются с несколькими
базовыми реакциями и параметрами, такими как порошко-
вая цементация, кроме того случая, когда на изделие
наносится покрытие без контакта со смесью порошка.
11.10.7.1.1. Технология нанесения алюминидов на внутернние поверхнос-
ти изделий из суперсплавов
11.10.7.1.2. Технологии нанесения силицидов на:
11.10.7.1.2.1. керамики и стекла с малым коэффициентом расширения;
11.10.7.1.2.2. углерод-углеродные композиционные материалы
Примечание
Стекла с малым коэффициентом расширения, указанные в
пунктах 11.10.7.1.2.1., 11.10.7.1.3., 11.10.7.1.4.1.,
11.10.7.2.1.10.1., 11.10.7.2.2.1.1., 11.10.7.2.3.1.1.,
11.10.7.2.3.3., 11.10.7.6.6.2., 11.10.7.6.7.1.,
11.10.7.6.8.1., определяются как стекла, имеющие коэф-
фициент температурного расширения в 1*10_-7 к_-1 или
менее, измеренный при 293 К (20° С)
11.10.7.1.3. Технология нанесения карбидов на керамики и стекла с ма-
лым коэффициентом расширения
11.10.7.1.4. Технология нанесения диэлектрических слоевых покрытий на:
11.10.7.1.4.1. керамики и стекла с малым коэффициентом расширения;
11.10.7.1.4.2. керамики и металлические матричные композиты;
11.10.7.1.4.3. карбид, цементируемый вольфрамом;
Примечание
Карбид, цементируемый вольфрамом, указанный в пунктах
11.10.7.1.4.3., 11.10.7.1.5.2., 11.10.7.1.7.1.,
11.10.7.2.1.7.3., 11.10.7.2.1.9.1., 11.10.7.2.1.10.4.,
11.10.7.2.2.1.4., 11.10.7.2.3.1.4., 11.10.7.6.8.4.,
11.10.7.6.16.1., 11.10.7.6.17.1., 11.10.7.7.3.2.,
11.10.7.7.4., не включает материалы, применяемые для
резания и формования металла, состоящие из карбида
вольфрама/(кобальт, никель), карбида титана/(кобальт,
никель), хрома карбидоникель-хрома и хрома карбид/
никеля
11.10.7.1.4.4. молибден и его сплавы;
11.10.7.1.4.5. бериллий и его сплавы;
11.10.7.1.4.6. материалы окон датчиков
Примечания
1. Материалы окон датчиков, указанные в пунктах
11.10.7.1.4.6., 11.10.7.2.1.10.8., 11.10.7.2.2.1.8.,
11.10.7.2.3.1.8., 11.10.7.2.3.2., следующие:
алюмин (окись алюминия), кремний, германий, сульфид
цинка, селенид цинка, арсенид галлия, а также сле-
дующие галогениды металлов: иодистый калий, фтористый
калий или материалы окон датчиков диаметром более
40 мм из бромистого таллия и хлоробромистого таллия.
2. Диэлектрические слоевые покрытия, упомянутые в пунктах
11.10.7.1.4., 11.10.7.2.1.10., 11.10.7.2.2.1.,
11.10.7.2.3.1., 11.10.7.6.8., определяются как много-
слойные изолирующие материалы, в которых интерферен-
ционные свойства конструкции сочетаются с различными
индексами переотражения, что используется для отра-
жения, передачи или поглощения различных диапазонов
длин волн. Диэлектрические слои определяются по коли-
честву более четырех или по качеству как композит:
диэлектрик/металл.
11.10.7.1.5. Технологии нанесения карбидов и их смесей на:
11.10.7.1.5.1. керамики и металлические матричные композиты;
11.10.7.1.5.2. карбид, цементируемый вольфрамом;
11.10.7.1.5.3. карбиды кремния
Примечание
Смеси, упомянутые в пунктах 11.10.7.1.5., 11.10.7.1.7.,
11.10.7.2.1.1. - 11.10.7.2.1.9., 11.10.7.3.1.,
11.10.7.3.2., 11.10.7.4.1., 11.10.7.4.2., 11.10.7.4.7.,
11.10.7.5.3., 11.10.7.5.4., 11.10.7.6.1. - 11.10.7.6.7.,
11.10.7.6.15. - 11.10.7.6.17., включают инфильтрирующий
материал, композиции, выравнивающие температуру процесса,
присадки и многоуровневые материалы и реализуются одним
или несколькими процессами нанесения покрытий
11.10.7.1.6. Технология нанесения тугоплавких металлов и их сплавов
на керамики и металлические матричные композиты
Примечание
Тугоплавкие металлы, указанные в пунктах 11.10.7.1.6.,
11.10.7.2.1.8., 11.10.7.3.3.2., 11.10.7.3.6.,
11.10.7.4.8.1., 11.10.7.4.9.1., 11.10.7.4.10.1.,
11.10.7.5.1., 11.10.7.5.2., 11.10.7.6.11.2.,
11.10.7.6.12.2., 11.10.7.6.13.2., 11.10.7.6.14.2.,
11.10.7.6.15., состоят из следующих металлов и их
сплавов: ниобия (колумбия - в США), молибдена, вольфрама
и тантала
11.10.7.1.7. Технологии нанесения вольфрама и его смеси на:
11.10.7.1.7.1. карбид, цементируемый вольфрамом;
11.10.7.1.7.2. карбиды кремния
11.10.7.2. Технологии нанесения покрытий методами физического осаж-
дения паров термовыпариванием
Примечания:
1. Физическое осаждение паров испарением (термовыпарива-
нием) - это процесс чисто внешнего покрытия в вакууме
с давлением, меньшим 0,1 Па, когда источник тепловой
энергии используется для превращения в пар наносимого
материала. В результате процесса конденсат или покры-
тие осаждается на соответствующие части поверхности
изделия. Появляющиеся в вакуумной камере газы в про-
цессе осаждения поглащаются в большинстве модифика-
ций процесса элементами сложного состава (компаунда-
ми) покрытия. Использование ионного или электронного
излучения или плазмы для активизации или участия в на-
несении покрытия также свойственно большинству модифи-
каций процесса физического осаждения паров термовыпари-
ванием. Применение мониторов для обеспечения измерения
в ходе процесса оптических характеристик или толщины
покрытия может быть реализовано в будущем для процессов
этого типа.
2. Ионное плакирование - специальная модификация гене-
рального процесса физического осаждения паров термовы-
париванием, в котором плазменный или ионный источник
используется для ионизации материала наносимых покрытий,
а отрицательный заряд изделия способствует осаждению
составляющих покрытия из плазмы. Введение активных ре-
агентов, испарение твердых материалов в камере, а
также использование мониторов, обеспечивающих измере-
ния (в процессе нанесения покрытий) оптических харак-
теристик и толщины покрытий, свойственны обычным моди-
фикациям процесса физического осаждения паров термо-
выпариванием.
11.10.7.2.1. Технологии нанесения покрытий методом электронно-лучево-
го физического осаждения паров
Примечание
Электронно-лучевое физическое осаждение использует элек-
тронный луч для нагревания и испарения материала, наноси-
мого на изделие
11.10.7.2.1.1. Технологии нанесения сплавов силицидов и их смесей на
суперсплавы
11.10.7.2.1.2. Технологии нанесения силицидов и их смеси на:
11.10.7.2.1.2.1. суперсплавы;
11.10.7.2.1.2.2. керамики и металлические матричные композиты;
11.10.7.2.1.2.3. углерод-углеродные композиционные материалы
11.10.7.2.1.3. Технология нанесения сплавов алюминидов и их смесей на
суперсплавы
Примечание
Термин "покрытие сплавами на основе алюминидов", упомя-
нутый в пунктах 11.10.7.2.1.3., 11.10.7.2.4.2.,
11.10.7.4.6., включает единичное или многослойное нане-
сение покрытий, в котором на элемент или элементы
осаждается покрытие прежде или в течение процесса али-
тирования, даже если на эти элементы были осаждены
покрытия другим процессом. Это, однако, исключает много-
кратное использование одношагового процесса порошкового
алитирования для получения сплавов алюминидов
11.10.7.2.1.4. Технологии нанесения MCrAlX и их смесей на:
11.10.7.2.1.4.1. суперсплавы;
11.10.7.2.1.4.2. коррозийно-стойкие стали
Примечание
MCrAlX, указанный в пунктах 11.10.7.2.1.4., 11.10.7.2.4.3.,
11.10.7.4.1., 11.10.7.6.4., соответствует сложному составу
покрытия, где М эквивалентно кобальту, железу, никелю или
их комбинации, а Х - эквивалентно гафнию, иттрию, кремнию,
танталу в любом количестве или другим специально внесенным
добавкам свыше 0,01% по весу в различных пропорциях и комбина-
циях, кроме:
CoCrAlY - покрытий, содержащих меньше 22% по весу хрома,
меньше 7% по весу алюминия и меньше 2% по весу иттрия;
CoCrAlY - покрытий, содержащих 22-24% по весу
хрома, 0,5 - 0,7% по весу иттрия;
NiCrAlY - покрытий, содержащих 21-23% по весу хрома,
10 - 12% по весу алюминия и 0,9 - 1,1 % по весу иттрия
11.10.7.2.1.5. Технологии нанесения модифицированного оксида циркония и
смесей на его основе на:
11.10.7.2.1.5.1. суперсплавы;
11.10.7.2.1.5.2. коррозийно-стойкие стали
11.10.7.2.1.6. Технология нанесения алюминидов и их смесей на
суперсплавы
11.10.7.2.1.7. Технологии нанесения карбидов и их смесей на:
11.10.7.2.1.7.1. углерод-углеродные композиционные материалы;
11.10.7.2.1.7.2. керамики и металлические матричные композиты;
11.10.7.2.1.7.3. карбид, цементируемый вольфрамом;
11.10.7.2.1.7.4. карбид кремния
11.10.7.2.1.8. Технологии нанесения тугоплавких металлов и их сплавов на:
11.10.7.2.1.8.1. керамики и металлические матричные композиты;
11.10.7.2.1.8.2. углерод-углеродные композиционные материалы;
11.10.7.2.1.9. Технологии нанесения вольфрама и его смеси на:
11.10.7.2.1.9.1. карбид, цементируемый вольфрамом;
11.10.7.2.1.9.2. карбид кремния
11.10.7.2.1.10. Технологии нанесения диэлектрических слоевых покрытий на:
11.10.7.2.1.10.1. керамики и стекла с малым коэффициентом расширения:
11.10.7.2.1.10.2. углерод-углеродные композиционные материалы;
11.10.7.2.1.10.3. керамики и металлические матричные композиты;
11.10.7.2.1.10.4. карбид, цементируемый вольфрамом;
11.10.7.2.1.10.5. карбид кремния;
11.10.7.2.1.10.6. молибден и его сплавы;
11.10.7.2.1.10.7. бериллий и его сплавы;
11.10.7.2.1.10.8. материалы окон датчиков
11.10.7.2.1.11. Технология нанесения боридов на титановые сплавы
Примечание
Титановые сплавы, указанные в пунктах 11.10.7.2.1.11.,
11.10.7.2.1.12., 11.10.7.3.3.1., 11.10.7.3.4.,
11.10.7.3.5., 11.10.7.4.3.2., 11.10.7.4.4.2.,
11.10.7.4.5.2., 11.10.7.4.6.2., 11.10.7.4.8.2.,
11.10.7.4.9.2., 11.10.7.4.10.2., 11.10.7.7.2.1.,
11.10.7.7.3.1., определяются как аэрокосмические сплавы
с предельным значением прочности на разрыв в 900 МПа или
более, измеренным при 293 К (20° С)
11.10.7.2.1.12. Технология нанесения нитридов на титановые сплавы
11.10.7.2.2. Нанесение покрытий методом физического осаждения паров
с ионизацией посредством резистивного нагрева (ионное
покрытие)
Примечание
Физическое осаждение с терморезистором использует
электрическое сопротивление в качестве источника тепла,
способного обеспечить контролируемый и равномерный (од-
нородный) поток паров материала покрытия
11.10.7.2.2.1. Технологии нанесения диэлектрических слоевых покрытий на:
11.10.7.2.2.1.1. керамики и стекла с малым коэффициентом расширения;
11.10.7.2.2.1.2. углерод-углеродные композиционные материалы;
11.10.7.2.2.1.3. керамики и металлические матричные композиты;
11.10.7.2.2.1.4. карбид, цементируемый вольфрамом;
11.10.7.2.2.1.5. карбиды кремния;
11.10.7.2.2.1.6. молибден и его сплавы;
11.10.7.2.2.1.7. бериллий и его сплавы;
11.10.7.2.2.1.8. материалы окон датчиков
11.10.7.2.3. Нанесение покрытий методом физического осаждения паров
с применением лазерного испарения
Примечание
Лазерное испарение использует импульсный или непрерывный
лазерный луч для нагрева материала, который формирует
покрытие
11.10.7.2.3.1. Технологии нанесения диэлектрических слоевых покрытий на:
11.10.7.2.3.1.1. керамики и стекла с малым коэффициентом расширения;
11.10.7.2.3.1.2. углерод-углеродные композиционные материалы;
11.10.7.2.3.1.3. керамики и металлические матричные композиты;
11.10.7.2.3.1.4. карбид, цементируемый вольфрамом;
11.10.7.2.3.1.5. карбиды кремния;
11.10.7.2.3.1.6. молибден и его сплавы;
11.10.7.2.3.1.7. бериллий и его сплавы;
11.10.7.2.3.1.8. материалы окон датчиков
11.10.7.2.3.2. Технология нанесения алмазоподобного углерода на материа-
лы окон датчиков
11.10.7.2.3.3. Технология нанесения силицидов на керамики и стекла с
малым коэффициентом расширения
11.10.7.2.4. Технологии нанесения покрытий методом физического осажде-
ния паров с применением катодно-дугового разряда
Примечание
Процесс покрытия с применением катодной дуги использует
расходуемый катод как материал, который формирует покры-
тие, и имеет установившийся разряд дуги на поверхности
катода после моментального контакта с заземленным пуско-
вым устройством (триггером). Контролируемая дуговая эро-
зия поверхности катода приводит к образованию высокоио-
низированной плазмы. анод может быть или коническим и
расположенным по периферии катода через изолятор, или
сама камера может играть роль анода. Для нелинейного уп-
равления нанесением изоляции используются изделия с ре-
гулированием их положения.
Это определение не включает нанесение покрытий беспоря-
дочной (произвольной) катодной дугой с фиксированным по-
ложением изделия
11.10.7.2.4.1. Технология нанесения сплавов силицидов на суперсплавы
11.10.7.2.4.2. Технология нанесения сплавов алюминидов на суперсплавы
11.10.7.2.4.3. Технология нанесения MCrAlX на суперсплавы
11.10.7.2.4.4. Технологии нанесения боридов на:
11.10.7.2.4.4.1. полимеры;
Примечание
Упомянутые в пунктах 11.10.7.2.4.4.1., 11.10.7.2.4.5.1.,
11.10.7.2.4.6.1. полимеры включают: полиамид, полиэфир,
полисульфид, поликарбонаты и полиуретаны
11.10.7.2.4.4.2. органические матричные композиты
11.10.7.2.4.5. Технологии нанесения карбидов на:
11.10.7.2.4.5.1. полимеры;
11.10.7.2.4.5.2. органические матричные композиты
11.10.7.2.4.6. Технологии нанесения нитридов на:
11.10.7.2.4.6.1. полимеры;
11.10.7.2.4.6.2. органические матричные композиты
11.10.7.3. Технологии нанесения покрытий методом цементации
Примечания
1. Технология для одношаговой порошковой цементации твер-
дых профилей крыльев экспортному контролю не подлежит.
2. Порошковая цементация - модификация метода нанесения
покрытия на поверхность или процесс нанесения чисто
внешнего покрытия, когда изделие погружено в пудру-
смесь нескольких компонентов (в пакет), которая сос-
тоит из:
металлических порошков, которые входят в состав
покрытия (обычно алюминий, хром, кремний или их
комбинации);
активатора (в большинстве случаев галогенидная
соль);
инертной пудры, наиболее часто оксида алюминия.
Изделие и порошок содержатся внутри реторты (камеры),
которая нагревается от 1030 К (757° С) до 1375 К
(1102° С) на время, достаточное для нанесения покрытия
11.10.7.3.1. Технологии нанесения силицидов и их смесей на:
11.10.7.3.1.1. углерод-углеродные композиционные материалы;
11.10.7.3.1.2. керамики и металлические матричные композиты;
11.10.7.3.2. Технологии нанесения карбидов и их смесей на:
11.10.7.3.2.1. углерод-углеродные композиционные материалы;
11.10.7.3.2.2. керамики и металлические матричные композиты;
11.10.7.3.3. Технологии нанесения силицидов на:
11.10.7.3.3.1. титановые сплавы;
11.10.7.3.3.2. тугоплавкие металлы и их сплавы
11.10.7.3.4. Технология нанесения алюминидов на титановые сплавы
11.10.7.3.5. Технология нанесения сплавов алюминидов на титановые
сплавы
11.10.7.3.6. Технология нанесения оксидов на тугоплавкие металлы и
их сплавы
11.10.7.4. Технологии нанесения покрытий методом плазменного напы-
ления
Примечания:
1. Плазменное напыление - процесс нанесения чисто внешнего
покрытия, когда плазменная пушка (горелка напыления),
в которой образуется и управляется плазма, принимая
пудру и пруток (проволоку) из материала покрытия, рас-
плавляет их и направляет на изделие, где формируется
интегрально связанное покрытие. Плазменное напыление
может быть построено на напылении плазмой низкого дав-
ления или высокоскоростной плазмой, реализуемой под
водой.
2. Низкое давление означает давление ниже атмосферного.
3. Высокоскоростная плазма определяется скоростью газа
на срезе сопла (горелки напыления), превышающей
750 м/с, рассчитанной при температуре 293 К (20° С) и
давлении 0,1 МПа.
11.10.7.4.1. Технология нанесения MGrAlX и их смесей на:
11.10.7.4.1.1. суперсплавы;
11.10.7.4.1.2. алюминиевые сплавы;
Примечание
Термин "алюминиевые сплавы", упомянутый в пунктах
11.10.7.4.1.2., 11.10.7.4.2.2., 11.10.7.4.7., соответст-
вует сплавам с предельным значением прочности на разрыв
в 190 МПа или более, измеренным при температуре 293 К
(20° С)
11.10.7.4.1.3. коррозионностойкие стали
11.10.7.4.2. Технология нанесения модифицированного оксида циркония и
его смесей на:
11.10.7.4.2.1. суперсплавы;
11.10.7.4.2.2. алюминиевые сплавы;
11.10.7.4.2.3. коррозионностойкие стали
Примечание
Указанный в пунктах 11.10.7.4.2., 11.10.7.6.5. модифици-
рованный оксид циркония соответствует добавкам оксидов
других металлов (таких как кальций, магний, иттрий, гаф-
ний, редкоземельных оксидов и т.д.) в оксид циркония в
соответствии с условиями стабильности определенных крис-
таллографических фаз и фазы смещения. Термостойкие по-
крытия из оксида циркония, модифицированные кальцием или
оксидом магния методом смещения или расплава, экспортному
контролю не подвергаются
11.10.7.4.3. Технология нанесения эрозионностойкого никель-графита на:
11.10.7.4.3.1. суперсплавы;
11.10.7.4.3.2. титановые сплавы
11.10.7.4.4. Технология нанесения эрозионностойкого никель-хром-алю-
миний-бетонита на:
11.10.7.4.4.1. суперсплавы;
11.10.7.4.4.2. титановые сплавы
11.10.7.4.5. Технология нанесения эрозионностойкого алюминий-кремний-
полиэфира на:
11.10.7.4.5.1. суперсплавы;
11.10.7.4.5.2. титановые сплавы
11.10.7.4.6. Технология нанесения сплавов алюминидов на:
11.10.7.4.6.1. суперсплавы;
11.10.7.4.6.2. титановые сплавы
11.10.7.4.7. Технологии нанесения силицидов и их смесей на алюминие-
вые сплавы
11.10.7.4.8. Технология нанесения алюминидов на:
11.10.7.4.8.1. тугоплавкие металлы и их сплавы;
11.10.7.4.8.2. титановые сплавы
11.10.7.4.9. Технология нанесения силицидов на:
11.10.7.4.9.1. тугоплавкие металлы и их сплавы;
11.10.7.4.9.2. титановые сплавы
11.10.7.4.10. Технология нанесения карбидов на:
11.10.7.4.10.1. тугоплавкие металлы и их сплавы;
11.10.7.4.10.2. титановые сплавы
11.10.7.5. Технологии нанесения покрытий методом осаждения суспензии
Примечание
Осаждение суспензии - это процесс нанесения покрытия с
модификацией покрываемой поверхности или чисто внешнего
покрытия, когда металлическая или керамическая пудра с
органическим связующим, суспензированными в жидкости,
связываются с изделием напылением, погружением или ок-
раской, с последующим воздушным или печным осушением, и
тепловой обработкой для достижения необходимых свойств
покрытия
11.10.7.5.1. Технология нанесения легкоплавких силицидов на тугоплав-
кие металлы и их сплавы
11.10.7.5.2. Технология нанесения легкоплавких алюминидов (кроме ма-
териалов для теплостойких элементов) на тугоплавкие ме-
таллы и их сплавы
11.10.7.5.3. Технология нанесения силицидов и их смесей на:
11.10.7.5.3.1. углерод-углеродные композиционные материалы;
11.10.7.5.3.2. керамические и металлические матричные композиты
11.10.7.5.4. Технология нанесения карбидов и их смесей на:
11.10.7.5.4.1. углерод-углеродные композиционные материалы;
11.10.7.5.4.2. керамические и металлические матричные композиты
11.10.7.6. Технология нанесения покрытий методом металлизации рас-
пылением
Примечания
1. Металлизация распылением - это процесс нанесения
чисто внешнего покрытия, базирующийся на феномене
передачи количества движения, когда положительные
ионы ускоряются в электрическом поле по направлению
к поверхности мишени (материала покрытия). Кинетичес-
кая энергия ударов ионов достаточна для образования
на поверхности мишени атомов материала покрытия с
подходящим размещением их на изделии.
2. Учитываются только триодная, магнетронная или реакти-
вная металлизация распылением, которые применяются
для увеличения адгезии материала покрытия и скорости
его нанесения, а также радиочастотное усиление напы-
ления, используемое при нанесении парообразующих
неметаллических материалов покрытий.
3. Низкоэнергетические ионные лучи (меньше 5 кэВ) могут
быть использованы для ускорения (активизации) процесса
нанесения покрытия.