Наименование | Разработка топологии тестовых структур и топологии МИС СВЧ, разработка файлов для электронной литографии и изготовления фотошаблонов | Код | A/01.6 | Уровень (подуровень) квалификации | 6 |
Происхождение трудовой функции | Оригинал X | Заимствовано из оригинала | ||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта |
Трудовые действия | Разработка топологии тестовых структур для характеризации параметров элементов монолитных интегральных схем (МИС) |
Разработка топологии МИС СВЧ, согласование их с технологами, внесение необходимых изменений | |
Разработка и подготовка файлов для электронной литографии с предъявлением их для технического контроля, внесение необходимых изменений | |
Разработка и подготовка файлов для изготовления фотошаблонов с предъявлением их для технического контроля, внесение необходимых изменений | |
Необходимые умения | Применять метод декомпозиции при анализе тестовых структур и МИС СВЧ |
Оценивать допуски на элементы при межоперационном контроле параметров | |
Переходить от схемы принципиальной электрической к топологии МИС СВЧ, используя систему автоматизации проектирования (САПР) | |
Планировать и оптимизировать контрольные операции в процессе прохождения пластин по технологическому маршруту | |
Осуществлять разработку топологии тестовых структур на пластине для проведения межоперационного контроля совместно с технологами | |
Выбирать методики измерения параметров тестовых структур при межоперационном контроле технологического процесса | |
Выбирать оборудование для межоперационного контроля | |
Анализировать статистическими методами результаты измерения параметров тестовых структур и делать заключение об их нахождении в пределах заданных допусков, приемлемых для достижения технических требований на МИС | |
Рассчитывать параметры МИС с учетом особенностей топологии | |
Разрабатывать техническое задание на изменение технологии | |
Взаимодействовать с технологическими подразделениями при передаче топологии в производство | |
Подготавливать файлы необходимых форматов для электронных шаблонов проекционной литографии | |
Работать на установке изготовления фотошаблонов | |
Необходимые знания | Основы технологии производства МИС СВЧ |
Основы статистического анализа | |
Методы статистической обработки данных и теории чувствительности устройств к разбросам параметров компонент | |
Теория и методы планирования эксперимента | |
Методики межоперационного контроля | |
Параметры гетероструктур и материалов, применяемых в технологии МИС СВЧ | |
Теория допусков применительно к наноэлектронике СВЧ | |
Методы разработки библиотек моделей пассивных и активных элементов МИС СВЧ | |
Современные системы проектирования топологии СВЧ-устройств и МИС СВЧ | |
Топологические библиотеки моделей пассивных и активных элементов МИС СВЧ | |
Оборудование для измерения и контроля параметров тестовых структур и МИС СВЧ | |
Методология системы менеджмента качества | |
Основы технологии электронной литографии | |
Методики и нормативная документация на подготовку конструкторской документации (КД) для электронной литографии | |
Основы технологии изготовления фотошаблонов для проекционной литографии | |
Методики и нормативная документация на подготовку КД для изготовления фотошаблонов | |
Другие характеристики | Деятельность, направленная на создание топологий МИС СВЧ, являющихся интеллектуальным продуктом, защищаемым авторами как "Топология ИС" |