ГОСТ Р 8.850-2013 Государственная система обеспечения единства измерений (ГСИ). Характеристики люксметров и яркомеров. Общие положения

     4.2 Люксметр

При поверке (калибровке) люксметра должны быть выполнены следующие требования: излучение должно падать перпендикулярно к эффективной опорной плоскости, источник излучения должен находиться на расстоянии, превышающем минимальное фотометрическое расстояние.

Если люксметр поверяют (калибруют) по эталонному фотометру, эффективная опорная плоскость люксметра должна быть расположена идентично ее положению у эталонного фотометра. Если люксметр поверяют (калибруют) по эталонной лампе, контролируемое расстояние определяют как расстояние от опорной плоскости лампы до эффективной опорной плоскости люксметра.

4.2.1 Люксметр с плоской насадкой

Освещенность ,

где - освещенность эффективной опорной плоскости.

Эффективная опорная плоскость, как правило, совпадает с передней плоскостью насадки.

4.2.2 Люксметр со сферической косинусной насадкой

Освещенность ,

где - освещенность эффективной опорной плоскости.

Эффективная опорная плоскость располагается внутри сферической насадки на расстоянии , равном 0,146 диаметра сферической насадки, от зенита сферы.

Примечание - определяют таким образом, чтобы область, вырезаемая из эффективной опорной плоскости, равнялась половине площади проекции входного окна фотометра:

.                                (1)

4.2.3 Люксметр с цилиндрической косинусной насадкой

Освещенность ,

где - освещенность эффективной опорной плоскости.

Эффективная опорная плоскость располагается внутри цилиндрической насадки параллельно входной диафрагме фотометра на расстоянии , равном 0,067 диаметра цилиндрической насадки, от боковой поверхности насадки (рисунок 1).

Примечание - определяют таким образом, чтобы область, вырезаемая из эффективной опорной плоскости, равнялась половине площади проекции входного окна фотометра:

.                               (2)

4.2.4 Люксметр с полуцилиндрической косинусной насадкой

Освещенность ,

где - освещенность эффективной опорной плоскости.

Эффективная опорная плоскость располагается внутри полуцилиндрической насадки параллельно входной диафрагме фотометра на расстоянии , равном 0,067 диаметра цилиндрической насадки, от боковой поверхности насадки (рисунок 1).

Примечание - определяют таким образом, чтобы область, вырезаемая из эффективной опорной плоскости, равнялась половине площади проекции входного окна фотометра:

.                          (3)