Статус документа
Статус документа

ГОСТ 32562.1-2013 (EN 1096-1:2012) Стекло с покрытием. Классификация (с Поправками, с Изменением N 1)

     4 Определения аддитивных методов нанесения покрытий

4.1 Химические методы нанесения покрытий:

Процессы, при которых покрытия на поверхности стекла образуются в ходе химических реакций с участием жидкости, пара или порошка.

Примечание - Далее приведены примеры:

а) нанесение покрытия химическим методом из раствора (wet chemical deposition): Распыление на поверхности стекла раствора соли металла и восстановителя. Происходит реакция восстановления с осаждением мелких частиц металла на поверхности стекла.

b) золь-гельное покрытие (sol-gel coating): На поверхность стекла способом окунания наносят металлоорганические соединения, которые пиролитическим методом преобразуются в соответствующие оксиды.

c) нанесение покрытия химическим методом из паровой фазы (chemical-vapour deposition): Соединения, находящиеся в паровой фазе, вступают в химическую реакцию на горячей поверхности стекла-основы.

d) покрытие, наносимое методом распыления (spray-coating): Пиролитическая реакция распыленных жидкостей на горячей поверхности стекла-основы.

e) порошковое покрытие (powder coating): Химическая реакция порошков на горячей поверхности стекла-основы.

4.2 Физические методы нанесения покрытий

Процессы, происходящие в условиях вакуума, при которых материалы из источника переносятся в виде простых веществ или соединений и покрытие формируется в результате их конденсации на поверхности стекла.

Примечания

1 С этим процессом могут быть связаны химические реакции.

2 Далее приведены примеры:

а) испарение (evaporation): Процесс, при котором материал покрытия испаряется под действием нагрева и осаждается на поверхности стекла.

b) напыление (sputtering): Газоразрядный процесс, при котором происходит бомбардировка ионами мишени, вызывающая распыление материала, который конденсируется на поверхности стекла.

4.3 Покрытия, также могут наноситься с использованием сочетания методов, описанных в 4.1 и 4.2.