Техническим комитетом ISO/ТС 172/SC1 была подготовлена серия международных стандартов "Обозначения в технических чертежах оптических элементов и систем", опубликованная как ИСО 10110 под общим названием "Оптика и фотоника - Разработка технической документации на оптические элементы и системы". После предварительного опубликования этой серии и особенно ее части 5 "Допуски на отклонения формы поверхности" и части 14 "Допуски на деформации волнового фронта" стала очевидной потребность в дополнительной документации, регламентирующей необходимую для описания изготавливаемых оптических изделий информацию с учетом допусков. В связи с этим ISO/ТС 172/SC1 решил подготовить технический доклад "Интерферометрия оптических волновых фронтов и форм поверхностей оптических элементов".
В ходе дискуссий было выяснено, что впервые технический доклад или международный стандарт, подготавливаемый ИСО, имеет отношение к волновой оптике, т.е. базируется на основах не геометрической, а физической оптики.
Этот проект стандарта (технический доклад) освещает первоочередные потребности специалистов в части определения качества оптических элементов и в целом оптических систем, причем основное внимание уделено погрешностям определения параметров и искажениям волнового фронта. Эти погрешности и искажения охватывают всю шкалу пространственных частот, однако в докладе их спектр ограничен только его низкочастотным и среднечастотным диапазонами. Высокочастотные погрешности и искажения волнового фронта могут быть определены либо методами микроскопии, либо путем измерения характеристик рассеянного света или же с использованием неоптических способов зондирования поверхности.
Аналогичное ограничение было введено и применительно к диапазону длин волн излучения источников, используемых в интерферометрах: в ИСО 14999 рассматриваются методы испытаний и измерений в основном в видимом диапазоне оптического спектра. В некоторых случаях при исследовании необработанных поверхностей, полученных после шлифования, применяются -лазеры с длиной волны 10,6 мкм, а при контроле оптики, используемой в микролитографии, - эксимерные лазеры с длинами волн ~193 и ~248 нм. Однако в данном докладе эти спектральные диапазоны упоминаются в редких случаях, а остальные участки оптического спектра остаются вне рассмотрения.